Testauspalvelut

XRF on kvantitatiivinen ja kvalitatiivinen analyysimenetelmä, jota voidaan käyttää nesteiden ja kiinteiden aineiden alkuaineanalyysin tekemiseen. Tämä metodi soveltuu näytteille, jotka eivät vaadi …

Pintojen kuvaaminen pyyhkäisyelektronimikroskoopilla (SEM) ja energiadispersiivisellä röntgenspektroskopialla (EDX, EDS). Tyypillisesti näytteestä otetaan useita kuvia eri suurennoksilla edustavan otoksen saamiseksi.

Tof-ERDA-mittaus soveltuu kiinteiden näytemateriaalien alkuainekoostumuksen kvantitatiiviseen määritykseen ja syvyysprofilointiin. ToF-ERDA havaitsee kaikki alkuaineet ja vedyn eri isotoopit. Menetelmää käytetään erityisesti kevyiden …

Röntgenheijastuvuuden mittaus eli XRR-analyysi, jolla voidaan määrittää kalvon tiheys, paksuus ja karheus. Paksuusmittauksissa paksuuden tulisi lähtökohtaisesti olla alle 300 nm (materiaalista riippuen) ja karheuden matala (<5 nm). Jos tarvitset lisätietoja …

Analyysissa näytteen pinnankarheus (RMS) määritetään atomivoimamikroskoopilla (AFM). Hintaan kuuluu mittaus kolmesta pisteestä. Mittausalueena käytetään 5 x 5 mikrometriä, ellei toisin sovita. Testiraportti sisältää RMS-arvon lisäksi 2D kuvan, 3D …

Ohutkalvonäytteiden analysoiminen röntgendiffraktion (GI-XRD) avulla.

Poikkileikkeen korkean resoluution TEM-EDX-kuvaus FIB-näytteenvalmistelulla koostuu seuraavista vaiheista: Näytteestä valmistellaan poikkileike kohdennetun ionisuihkun (FIB) avulla. , Poikkileike kuvataan korkean resoluution …

Poikkileikkeiden kuvaaminen korkearesoluutioisella läpäisyelektronimikroskoopilla (HR-TEM). Näyte valmistetaan kohdennetulla ionisuihkulla (FIB). Tuloksena saadaan hyvin tarkkoja …

Metallisten alkuaineiden jäämien määritys piikiekon päällä olevasta ohutkalvosta. Määrityksessä voidaan hyödyntää eri menetelmiä näytteen ominaisuuksista riippuen. Kysy lisätietoja mittauksen soveltuvuudesta näytteellesi menetelmän asiantuntijalta.

Ohutkalvonäytteiden röntgendiffraktio (GI-XRD) + röntgenheijastavuus (XRR). Tuloksena saadaan kalvojen tiheys (g/cm³), paksuus (nm) ja karheus (nm). XRR-paksuusmittausta varten kalvon paksuuden tulisi olla alle 100 nm ja ainakin yhtä suuruusluokkaa …

Näytteen kuvaaminen läpivalaisuelektronimikroskoopilla (TEM). Tyypillisesti näytteestä otetaan useita kuvia eri suurennoksilla edustavan otoksen saamiseksi.

VPD ICP-MS-menetelmällä voidaan havaita häviävän pienet metalliset epäpuhtaudet piikiekkojen ja ohutkalvojen pinnoilta. Analyysi perustuu näytteen pintakerroksen (~2 nm) liuottamiseen, jonka jälkeen metallien pitoisuudet mitataan liuoksesta. Perusanalyysi sisältää seuraavien …

Ellipsometria on optinen tekniikka, jolla karakterisoidaan polarisoituneen valon heijastumista näytteen pinnasta. Menetelmällä voidaan määrittää näytteen taitekerroin tai paksuus. Ellipsometriaa käytetään ohutkalvojen ja perusmateriaalien karakterisointiin. Näyte voi olla yksi- …

XPS on semikvantitatiivinen tekniikka, joka mahdollistaa materiaalien pinnan alkuainekoostumuksen määrityksen. Lisäksi menetelmällä voidaan määrittää atomien sitoutumis- ja elektronitilat. XPS on pintaherkkä tekniikka. Tyypillinen tutkimussyvyys on 3-10 nm ja havaitsemisrajat noin …

Sekundääri-ionimassaspektrometria (SIMS) soveltuu erityyppisten kiinteiden materiaalien syvyysprofilointiin.SIMS tunnistaa kaikki alkuaineet, joiden massa on vedyn ja uraanin välissä. Matalan määritysrajan ansiosta menetelmä sopii jopa …

XPS-syvyysprofiilointi vuorottelee etsausjaksojen ja XPS-analyysijaksojen välillä. Menetelmä antaa semikvantitatiivista tietoa alkuainekoostumuksesta (at. %) syvyyden funktiona. Atomien sitoutumis- ja elektronitilat voidaan myös määrittää syvyyden funktiona. Kyseessä …

Analyysin aikana näytteen pinta kuvannetaan atomivoimamikroskoopilla (AFM). Tyypillisesti näytteestä otetaan topologisia kuvia useasta eri kohdasta. Mittausalue on 5 x 5 mikrometriä, ellei toisin sovita.

Näytteen kuvaaminen läpivalaisuelektronimikroskoopilla (TEM). Lisäksi näytteen alkuainekoostumus tunnistetaan energiadispersiivisellä röntgenspektroskopialla (EDX). Tyypillisesti näytteestä otetaan useita kuvia eri suurennoksilla edustavan otoksen saamiseksi.

Naarmuuntumistesti (nano scratch) ohutkalvonäytteille. Tyypillinen mittaus sisältää valokuvan naarmuuntumisjäljestä sekä critical load -arvojen määrityksen.

Poikkileikenäyte valmistellaan jäädytyslohkaisun avulla: ensin näyte jäädytetään nestetypessä (-195 C°), minkä jälkeen jäädytetty näyte halkaistaan kahtia. Murrettu poikkipinta kuvataan pyyhkäisyelektronimikroskoopilla (SEM). …

Analyysin aluksi poikkileikenäyte valmistellaan kohdennetulla ionisäteellä (Focused Ion Beam, FIB). Tämän jälkeen poikkileikkeen pinta kuvataan pyyhkäisyelektronimikroskoopilla (SEM).

TXRF-menetelmällä voidaan määrittää näytteen pinnan alkuainekoostumus. Mittausta käytetään usein häviävän pienten epäpuhtauksien tunnistamiseen eri puolilta ohutkalvoa tai piikiekkoa. Määritysraja: 109 – 1011 at/cm2 Syvyysresoluutio: n. 3-9 nm (materiaalista riippuen)

XPS on pintaherkkä tekniikka, jolla voidaan määrittää näytteen alkuainekoostumus ja alkuaineiden kemialliset sidostilat. Mittaussyvyys on tyypillisesti 3-10 nm ja määritysraja 0.1-1 atomiprosenttia. XPS …

Analyysiin sisältyy poikkileikkeen valmistelu BIB-tekniikalla, poikkileikkeen pinnan kuvantaminen pyyhkäisyelektronimikroskoopilla (SEM) ja alkuaineiden määritys EDX-tekniikalla. Poikkileikkeen leveys on noin 1 mm.

HRMS eli korkean resoluution massaspektrometria on yhdisteiden molekyylimassan määrittämiseen käytetty analyysitekniikka. Tarkkuutensa ansiosta HRMS-mittaus soveltuu erinomaisesti niin pienten orgaanisten molekyylien kuin suurten makromolekyylien rakenteen tunnistamiseen. …

Pinnan karheuden tai reunan terävyyden määritys optisella profilometrillä.

Alkuainesuhteiden määritys RBS-menetelmällä (Rutherfordin takaisinsirontaspektrometria). Mittaus soveltuu syvyysprofilointiin. RBS antaa tietoa raskaampien alkuaineiden pitoisuuksista. Kevyistä alkuaineista saadaan tietoa, jos menetelmä yhdistetään …

RBS-menetelmällä (Rutherfordin takaisinsirontaspektrometria) voidaan määrittää kiinteän näytteen alkuainekoostumus. Mittaus soveltuu myös syvyysprofilointiin. RBS-mittausta käytetään raskaiden alkuaineiden pitoisuusmäärityksiin. Jos myös kevyempien …

Boorin (B) ja fosforin (P) akkreditoitu määritys BPSG-kiekoista.

Metallipitoisuuksien määritys LA-ICP-MS-tekniikalla. Mittaus sisältää seuraavien alkuaineiden määrityksen: Ag, Al, As, Au, B, Ba, Be, Bi, Br, Ca, Cd, Ce, Co, Cr, Cs, Cu, Dy, Er, Eu Fe, Ga, Gd, Ge, Hf, Hg, Ho, I, In, Ir, K, La, …

Metallipitoisuuksien määritys LA-ICP-MS-tekniikalla. Standardianalyysi sisältää seuraavien alkuaineiden määrityksen: Ca, Cr, Cu, Co, Er, Fe, Ge, Pb, Mn, Mo, Ni, K, Na, Sn, Ti, Ta, Zn, Bi, Au, Sn, V, Sr ja Y. Tulokset …

Ryhmäviiveen dispersion (GDD, group delay dispersion) ja ryhmänopeuden dispersion (GVD, group velocity dispersion) määritys optisesta materiaalista valkoisen valon interferometrillä.

GD-OES (eng. Glow Discharge-Optical Emission Spectroscopy) on kvantitatiivinen analyysitekniikka, jolla voidaan määrittää näytteen alkuainekoostumus syvyyden funktiona. Mittausta käytetään ensisijaisesti paksujen materiaalien syvyysprofilointiin. Näytteet ovat tyypillisesti …

Metallipitoisuuden määritys LA-ICP-MS-tekniikalla. Mittaus sisältää yhden alkuaineen määrityksen. Tulokset ilmoitetaan yksikössä ppm (µg / g).

Materiaalien magneettisten ominaisuuksien määritys magneettikentän funktiona. Mittaukseen käytetään värähtelevän näytteen magnetometriä (vibrating-sample magnetometer, VSM), jota kutsutaan myös Foner-magnetometriksi. Mittaus perustuu Faradayn …

Näytteen sisäisten rakenteiden 3D-kuvantaminen mikrotietokonetomografialla (mikro-CT), joka ei vahingoita näytettä. Menetelmällä saadaan tietoa kiinteiden rakenteiden tiheydestä, sisäisistä halkeamista, tyhjiöistä ja faasijakaumista. Analyysi soveltuu parhaiten jauhemaisille …

ATD-GC-MS (kaasukromatografia-massaspektrometria ATD-keräimellä) on hyvin herkkä analyysimenetelmä piikiekkojen pinnalta löytyvien orgaanisten vierasaineiden analysointiin. …

ToF-ERDA-mittauksella voidaan määrittää kiinteän näytteen alkuaineprofiili kvantitatiivisesti. Menetelmä soveltuu syvyysprofilointiin. ToF-ERDA havaitsee kaikki alkuaineet ja soveltuu erityisen hyvin kevyiden alkuaineiden …

Näytettä vahingoittamaton mittaus, jossa noin pikosekunnin mittainen ultraäänipulssi läpäisee ohutkalvon tai nanorakenteen ja antaa tietoa mm. kalvon paksuudesta, halkeamista ja delaminoitumisesta.