Ellipsometria
Ellipsometria on optinen tekniikka, jolla karakterisoidaan polarisoituneen valon heijastumista näytteen pinnasta.
Menetelmällä voidaan määrittää näytteen taitekerroin tai paksuus.
Ellipsometriaa käytetään ohutkalvojen ja perusmateriaalien karakterisointiin. Näyte voi olla yksi- tai monikerroksinen kalvo. Mittaukseen sopiva näytteen paksuus riippuu materiaalista - kysy tarvittaessa lisätietoja asiantuntijoiltamme.
Lisätietoja menetelmästä:
Ellipsometria- Soveltuvat näytematriisit
- Ohutkalvot, puolijohteet, eristeet, polymeerit, orgaaniset pinnoitteet, metallikerrokset
- Tyypillinen läpimenoaika
- 2 viikkoa näytteiden vastaanottamisesta
- Saatavilla olevat laatujärjestelmät
- Measurlabsin validoima menetelmä
- Mittauslaitteet
- Menetelmän asiantuntija
Hinta
Hintaan lisätään myös tilauskohtainen 97 € palvelumaksu.
Suurille näyte-erille tarjoamme alennetun hinnan.
Heräsikö kysymyksiä? Autamme mielellämme.
Heräsikö kysymyksiä? Autamme mielellämme.
Palvelemme: ma–pe klo 9–17
Muita testejä valikoimistamme
XRR-mittaus ohutkalvoille
AFM-kuvantaminen sileille pinnoille
RBS-mittaus
VPD ICP-MS
XPS-mittaus
Ohutkalvonäytteiden GI-XRD
LA-ICP-MS-mittaus ohutkalvonäytteille
Ryhmäviiveen ja ryhmänopeuden dispersiot (GDD ja GVD)
TEM-EDX-kuvantaminen
Optinen profilometria (3D-mittaus)
Ota yhteyttä
Ota yhteyttä alla olevalla lomakkeella, niin saat tarjouksen testauspalveluista yhdessä arkipäivässä.
Onko sinulla kysymyksiä tai tarvitsetko apua? Lähetä meille sähköpostia info@measurlabs.com tai soita myyjillemme.