VPD ICP-MS

Metallisten epäpuhtauksien määritys piikiekkojen tai ohutkalvonäytteiden pinnoilta VPD-ICP-MS-tekniikalla.

Analyysille on kaksi erilaista menetelmää, joiden väliltä valitaan sopivin näytteen koostumuksen perusteella: VPD ICP-MS piikiekoille ja VPD ICP-MS ohutkalvonäytteille.

Piikiekkojen VPD-ICP-MS-analyysissä käytetään fluorivetyhappohöyryä (HF), joka kondensoituu näytteen pinnalle ja reagoi pinnalla olevan natiivioksidikerroksen kanssa. Pinnan epäpuhtaudet päätyvät kondensaattiin ja muodostavat näin liuenneita yhdisteitä. Lopuksi näytteen pinta “skannataan” 200 µl happopisaralla, josta analysoidaan metalliset epäpuhtaudet.

Ohutkalvojen analysointiin käytetään fluorivetyhapon (HF) sijasta typpihappoa (HNO3). Ohutkalvojen VPD-ICP-MS-mittausta ei ole automatisoitu, joten analyysi vaatii enemmän manuaalista työtä ja on siksi kalliimpi.

Standardipaketti pitää sisällään seuraavien alkuaineiden määrityksen: Li, B, Na, Mg, Al, P, K, Ca, Ti, Cr, Mn, Fe, Co, Ni, Cu, Zn, Ge, As, Y, Mo, Sn, Ba, Ce, Hf, Ta, W, ja Pb.

Jalometallipaketti pitää sisällään seuraavien alkuaineiden määrityksen: Ru, Pd, Ag, Pt, ja Au.

Lisäksi on mahdollista analysoida muita alkuaineta, kuten Be, V, Ga, Se, Sb. Menetelmällä ei kuitenkaan voida tunnistaa monia kevyitä alkuaineita (esim. H, C, N, O ja F)

Analyysi voidaan tehdä 100, 150, 200 ja 300 mm kokoisille piikiekoille tai ohutkalvonäytteille. Myös muun kokoisia näytteitä on mahdollista analysoida – ota yhteyttä pyytääksesi tarjousta.