Spektroskooppinen ellipsometria
Spektroskooppinen ellipsometria (SE) on näytettä vahingoittamaton optinen tekniikka, jota käytetään muun muassa ohutkalvojen ja perusmateriaalien paksuuden määrittämiseen. SE mittaa heijastuneen polarisoidun valon muutosta.
- Nopeat tulokset
- Henkilökohtaista apua asiantuntijoilta
- Kilpailukykyiset hinnat
- Takuu tulosten oikeellisuudesta
Spektroskooppinen ellipsometria (SE) on optinen tekniikka, joka karakterisoi polarisoituneen valon heijastumista näytteen pinnasta. SE:tä käytetään ohutkalvojen ja perusmateriaalien karakterisointiin. Kalvo voi olla yksi- tai monikerroksinen ja paksuuden noin 1 nm – 1 000 nm (eli 1 μm). SE on näytettä vahingoittamaton ja kontaktiton menetelmä. Sitä voidaan käyttää litteille, läpinäkyville ja puoliläpinäkyville kalvoille.
SE-menetelmä perustuu polarisoimattomaan valoon, joka lähetetään polarisaattorin läpi ja joka päästää läpi vain tietyn sähkökentän suuntaisen valon. Lineaarisesti polarisoitu valo kulkee näytteeseen ja heijastuu pinnasta elliptisesti polarisoituneena.
Ellipsometria mittaa kahta arvoa, amplitudisuhdetta (tan ψ) ja vaihe-eroa (Δ), jotka kuvaavat polarisaation muutosta sen jälkeen, kun valo on ollut vuorovaikutuksessa näytteen kanssa. Menetelmää voidaan käyttää materiaalin ominaisuuksien, kuten paksuuden ja taitekertoimen, analysointiin.
Soveltuvat näytematriisit
- Läpinäkyvät ja puoliläpinäkyvät näytteet
- Ohutkalvot
- Puolijohteet
- Eristeet
- Polymeerit
- Orgaaniset pinnoitteet
- Metallikerrokset
Spektroskooppisen ellipsometrian tyypillisiä käyttökohteita
- Ohutkalvojen paksuuden määrittäminen
- Ohutkalvojen optisten ominaisuuksien mittaus
Ota yhteyttä
Ota yhteyttä alla olevalla lomakkeella, niin saat tarjouksen testauspalveluista yhdessä arkipäivässä.
Voit myös lähettää sähköpostia info@measurlabs.com tai soittaa meille numeroon +358 50 336 6128
Usein kysytyt kysymykset
Spektroskooppista ellipsometriaa käytetään ohutkalvojen ja perusmateriaalien eri ominaisuuksien, kuten paksuuden ja taitekertoimen, määrittämiseen.
Näytteen tulee heijastaa valoa ja sen tulisi olla optisesti tasainen. Liian karkeat pinnat siroavat valonsäteet pois havaitsijasta, mikä estää ellipsometrisen mittauksen.
Kalvon tulee olla läpinäkyvä tai puoliläpinäkyvä, jotta valo pääsee näytteen pinnan läpi. Näytteen sopiva paksuus on noin 1 nm – 1000 nm.
SE:tä voidaan käyttää muun muassa ohutkalvojen, puolijohteiden, polymeerien, eristeiden ja jopa metallikerrosten tutkimuksissa.
Measurlabs tarjoaa erilaisia laboratorioanalyyseja tuotekehittäjille ja laatujohtajille. Suoritamme osan analyyseista omassa laboratoriossamme, mutta enimmäkseen ulkoistamme ne huolella valikoiduille kumppanilaboratorioille. Tällä tavoin pystymme lähettämään kunkin näytteen sille sopivimpaan laboratorioon ja tarjoamaan asiakkaillemme korkealaatuisia analyyseja yli tuhannella eri menetelmällä.
Kun otat meihin yhteyttä tarjouspyyntölomakkeella tai sähköpostilla, yksi menetelmäasiantuntijoistamme ottaa mittauksesi hoitaakseen ja vastaa mahdollisiin kysymyksiisi. Saat kirjallisen tarjouksen, jossa on kerrottu mittauksen yksityiskohdat ja osoite, johon voit lähettää näytteet. Me huolehdimme sen jälkeen näytteiden toimittamisesta oikeisiin laboratorioihin ja kirjoitamme tuloksista sinulle selkeän mittausraportin.
Näytteet toimitetaan laboratorioomme yleensä lähetillä. Varmista yksityiskohdat asiantuntijamme kanssa ennen näytteiden lähettämistä.
Spektroskooppiset ellipsometria-analyysit ohutkalvon paksuuden määrittämiseen. Yksikerroksisten ja monikerroksisten ohutkalvojen paksuusmittaukset polarisoidun valon muutosten analysoinnilla. Measurlabs tarjoaa laadukkaat spektroskooppiset ellipsometriamittaukset akkreditoiduissa laboratorioissa,