GD-OES-analyysi
GD-OES (eng. glow-discharge optical emission spectroscopy) on kvantitatiivinen analyysitekniikka, jolla voidaan määrittää näytteen alkuainekoostumus eri syvyyksissä, jopa yli 100 µm syvyyteen asti. Menetelmää käytetään muun muassa metallurgiassa, materiaalitieteessä ja puolijohdemateriaalien kehityksessä.
Tilaa mittaukset Measurlabsilta
- Nopeat tulokset
- Henkilökohtaista apua asiantuntijoilta
- Kilpailukykyiset hinnat
- Takuu tulosten oikeellisuudesta
Mihin GD-OES-analyysiä käytetään?
GD-OES-menetelmän pääasiallinen käyttötarkoitus on erityyppisten kiinteiden materiaalien syvyysprofilointi, eli alkuainekoostumuksen määritys syvyyden funktiona. Yleisiä näytteitä ovat epäorgaaniset materiaalit ja pinnoitteet, esimerkiksi metalli, lasi ja keramiikka. Niin sähköä johtavat kuin eristävät materiaalit soveltuvat GD-OES-analyysiin.
Miten GD-OES toimii?
GD-OES-analyysin aikana näytettä pommitetaan plasmaioneilla. Plasmalle altistumisen seurauksena näyte emittoi fotoneja eri alkuaineille ominaisilla aallonpituuksilla, jolloin fotonien määrää havainnoimalla saadaan tietoa kunkin alkuaineen määrästä. Analyysin edetessä näytteen pinta hioutuu pois kerros kerrokselta, mikä mahdollistaa alkuainekoostumuksen määrityksen eri syvyyksissä.
Analysoitavan alueen halkaisija on noin 2-10 mm, ja sputterointinopeus vaihtelee 0,1-100 nm/s välillä. GD-OES:in suurin mahdollinen analyysisyvyys on tyypillisesti 100-200 µm. Kaikki alkuaineet voidaan analysoida samanaikaisesti, mukaan lukien kevyet alkuaineet, kuten H, B, C, N ja O. Määritysraja on yleisesti ppm-luokassa (miljoonasosat).
GD-OES-menetelmän edut ja rajoitteet
GD-OES mahdollistaa hyvin nopeat alkuainemääritykset ja soveltuu niin eristäville kuin sähköä johtaville materiaaleille. Useista muista syvyysprofilointimenetelmistä (esim. XPS, LA-ICP-MS) poiketen se havaitsee myös kevyimmät alkuaineet. Lisäksi uusimmilla laitteistoilla voidaan mitata näytteen paksuus suurella tarkkuudella.
Haittapuolena on laitteiston edellyttämä tarkka kalibrointi, jolla mahdollistetaan kvantitatiivisten tulosten saaminen taustahäiriöistä huolimatta.
Soveltuvat näytematriisit
- Metallit
- Monikerrosmateriaalit
- Puolijohteet
- Lasi ja keramiikka
GD-OES-menetelmän yleisiä käyttötarkoituksia
- Syvyysprofilointi
- Alkuainekoostumuksen määritys
Ota yhteyttä
Ota yhteyttä alla olevalla lomakkeella, niin saat tarjouksen testauspalveluista yhdessä arkipäivässä.
Onko sinulla kysymyksiä tai tarvitsetko apua? Lähetä meille sähköpostia info@measurlabs.com tai soita +358 50 336 6128.
Usein kysytyt kysymykset
GD-OES on yleinen menetelmä kiinteän näytteen alkuainekoostumuksen määritykseen eri syvyyksissä. Menetelmällä saadaan nopeasti kvantitatiivisia tuloksia jopa yli 100 µm syvyydestä.
Vaikka GD-OES on melko herkkä menetelmä, voidaan SIMS- ja ToF-SIMS-menetelmillä havaita vieläkin pienempiä alkuainepitoisuuksia. Lisäksi laitteisto vaatii kalibrointia matriisivaikutusten minimoimiseksi.
Measurlabs tarjoaa erilaisia laboratorioanalyyseja tuotekehittäjille ja laatujohtajille. Suoritamme osan analyyseista omassa laboratoriossamme, mutta enimmäkseen ulkoistamme ne huolella valikoiduille kumppanilaboratorioille. Tällä tavoin pystymme lähettämään kunkin näytteen sille sopivimpaan laboratorioon ja tarjoamaan asiakkaillemme korkealaatuisia analyyseja yli tuhannella eri menetelmällä.
Kun otat meihin yhteyttä tarjouspyyntölomakkeella tai sähköpostilla, yksi menetelmäasiantuntijoistamme ottaa mittauksesi hoitaakseen ja vastaa mahdollisiin kysymyksiisi. Saat kirjallisen tarjouksen, jossa on kerrottu mittauksen yksityiskohdat ja osoite, johon voit lähettää näytteet. Me huolehdimme sen jälkeen näytteiden toimittamisesta oikeisiin laboratorioihin ja kirjoitamme tuloksista sinulle selkeän mittausraportin.
Näytteet toimitetaan laboratorioomme yleensä lähetillä. Varmista yksityiskohdat asiantuntijamme kanssa ennen näytteiden lähettämistä.