REM-EBIC-Analyse
In-situ-elektrische Charakterisierung von Halbleiterproben mittels Electron Beam Induced Current (EBIC)-Mapping. Die Methode ermöglicht eine direkte Abbildung elektrisch aktiver Defekte, die in rein morphologischen REM-Aufnahmen nicht sichtbar sind.
Die Probe wird in eine REM-Kammer eingebracht und mit einem fokussierten Elektronenstrahl abgerastert, wodurch Elektron-Loch-Paare im Material erzeugt werden. Der resultierende Mindertraeger-Strom wird Pixel fuer Pixel kartiert und mit gleichzeitig aufgenommenen Sekundaerelektronen- (SE) oder Rueckstreuelektronen-(BSE)‑Bildern ueberlagert, um elektrisch aktive Defekte, Uebergangsbereiche und Korngrenzen mit Submikrometeraufloesung zu lokalisieren. Mindertraeger-Diffusionslaenge, Oberflaechenrekombinationsgeschwindigkeit und Uebergangsposition koennen zudem aus Linienprofil‑Abklingkurven bestimmt werden.
Die Beschleunigungsspannung des Elektronenstrahls ist vollständig einstellbar, wobei der am häufigsten verwendete Bereich zwischen 0,2 kV und 20 kV liegt. Die Temperatur kann ebenfalls im Bereich von -40 °C bis 200 °C gewählt werden.
Vor der Analyse wird ein ohmscher oder Schottky-Kontakt (z. B. eine dünne Au-, Al- oder Ti/Au-Schicht) auf die Probe aufgebracht, um die Ladungsträgererfassung zu ermöglichen. Querschliffe können mittels FIB-Präparation hergestellt werden.
Das angezeigte Preisbeispiel gilt für das EBIC-Mapping eines Bare Die mit einem 28nm-Prozessknoten. Bitte fordern Sie ein Angebot für Ihre spezifische Probe an.
Weitere Informationen zur Methode:
Rasterelektronenmikroskopie (REM)- Geeignete Probenmatrizen
- Unbeschichtete und beschichtete Siliziumwafer, Halbleitermaterialien und -bauelemente, einschließlich MOSFETs und anderer CMOS‑Bauelemente, Poly‑Si, CIGS- und Perowskit-Solarzellen, SiC- und GaN‑Leistungsbauelemente (z. B. Hochspannungsdioden, Transistoren und EV‑Invertermodule), LEDs, Laserdioden, epitaktische Wafer sowie III–V- und II–VI‑Verbindungshalbleiter
- Benötigt Anzahl Proben
- Max. Größe 2 x 2 cm
- Übliche Bearbeitungszeit
- 2 Wochen nach Eingang der Probe
- Nachweisgrenze
- Räumliche Auflösung: ca. 20–100 nm
- Verfügbare Qualitätssysteme
- Akkreditierte Testmethoden
- Messgeräte
- Methodenexperte
Preis
Wir berechnen außerdem eine 97 € Servicegebühr pro Auftrag.
Bei großen Chargen von Proben sind Rabatte möglich.
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