REM-EBIC-Analyse

In-situ-elektrische Charakterisierung von Halbleiterproben mittels Electron Beam Induced Current (EBIC)-Mapping. Die Methode ermöglicht eine direkte Abbildung elektrisch aktiver Defekte, die in rein morphologischen REM-Aufnahmen nicht sichtbar sind.

Die Probe wird in eine REM-Kammer eingebracht und mit einem fokussierten Elektronenstrahl abgerastert, wodurch Elektron-Loch-Paare im Material erzeugt werden. Der resultierende Mindertraeger-Strom wird Pixel fuer Pixel kartiert und mit gleichzeitig aufgenommenen Sekundaerelektronen- (SE) oder Rueckstreuelektronen-(BSE)‑Bildern ueberlagert, um elektrisch aktive Defekte, Uebergangsbereiche und Korngrenzen mit Submikrometeraufloesung zu lokalisieren. Mindertraeger-Diffusionslaenge, Oberflaechenrekombinationsgeschwindigkeit und Uebergangsposition koennen zudem aus Linienprofil‑Abklingkurven bestimmt werden.

Die Beschleunigungsspannung des Elektronenstrahls ist vollständig einstellbar, wobei der am häufigsten verwendete Bereich zwischen 0,2 kV und 20 kV liegt. Die Temperatur kann ebenfalls im Bereich von -40 °C bis 200 °C gewählt werden.

Vor der Analyse wird ein ohmscher oder Schottky-Kontakt (z. B. eine dünne Au-, Al- oder Ti/Au-Schicht) auf die Probe aufgebracht, um die Ladungsträgererfassung zu ermöglichen. Querschliffe können mittels FIB-Präparation hergestellt werden.

Das angezeigte Preisbeispiel gilt für das EBIC-Mapping eines Bare Die mit einem 28nm-Prozessknoten. Bitte fordern Sie ein Angebot für Ihre spezifische Probe an.

Geeignete Probenmatrizen
Unbeschichtete und beschichtete Siliziumwafer, Halbleitermaterialien und -bauelemente, einschließlich MOSFETs und anderer CMOS‑Bauelemente, Poly‑Si, CIGS- und Perowskit-Solarzellen, SiC- und GaN‑Leistungsbauelemente (z. B. Hochspannungsdioden, Transistoren und EV‑Invertermodule), LEDs, Laserdioden, epitaktische Wafer sowie III–V- und II–VI‑Verbindungshalbleiter
Benötigt Anzahl Proben
Max. Größe 2 x 2 cm
Übliche Bearbeitungszeit
2 Wochen nach Eingang der Probe
Nachweisgrenze
Räumliche Auflösung: ca. 20–100 nm
Verfügbare Qualitätssysteme
Akkreditierte Testmethoden
Messgeräte

Preis

Beginnend bei (Ohne MwSt.):
880 €pro Probe

Wir berechnen außerdem eine 97 € Servicegebühr pro Auftrag.

Bei großen Chargen von Proben sind Rabatte möglich.

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