TXRF-Messung
Totalreflexions-Röntgenfluoreszenz (TXRF)-Messung zur Bestimmung von elementaren Spurenverunreinigungen auf Waferoberflächen.
49–277 einzelne Spots werden gemessen, und die Elementkonzentrationen werden sowohl als visuelle Heatmaps auf der Waferoberfläche als auch als numerische Konzentrationen angegeben.
Fast alle Elemente zwischen Natrium (Na) und Uran (U) können in die Liste der analysierten Elemente aufgenommen werden. In der Regel sind einige oder alle der folgenden Elemente enthalten: Al, Mg, Na, Ag, Ar, Ba, Ca, Cd, Ce, Cl, Co, Cr, Cs, Cu, Dy, Er, Eu, Fe, Gd, Hf, Ho, I, In, K, La, Lu, Mn, Nd, Ni, P, Pd, Pm, Pr, Rh, S, Sb, Sc, Sm, Sn, Tb, Te, Ti, Tm, V, Xe, Yb, Zn, Ac, As, At, Au, Bi, Br, Fr, Ga, Ge, Hg, Ir, Kr, Mo, Nb, Os, Pa, Pb, Po, Pt, Ra, Rb, Re, Rn, Ru, Se, Sr, Ta, Tc, Th, Tl, U, W, Y, Zr.
Alle gängigen beschichteten und unbeschichteten Wafer (z. B. Si, SiC, GaAs, GaN, InP usw.) mit Durchmessern bis 300 mm (12 Zoll) sind für die Messung geeignet.
Die Nachweisgrenzen variieren zwischen 109 bis 1012 at/cm2. Übergangsmetalle weisen im Vergleich zu Alkalimetallen und Erdalkalimetallen niedrigere Nachweisgrenzen auf.
Die räumliche Auflösung liegt je nach Wafergröße und Anzahl der Messpunkte zwischen 5 und 15 mm.
In der Regel wird das Rigaku TXRF 310Fab als Messgerät eingesetzt.
Die Preise hängen von mehreren Faktoren ab, einschließlich der Anzahl der analysierten Spots und gemeinsam eingereichten Wafer. Bitte kontaktieren Sie uns für ein individuelles Angebot.
Weitere Informationen zur Methode:
TXRF-Analyse- Geeignete Probenmatrizen
- Alle blanken und beschichteten Wafer mit einem Durchmesser von bis zu 300 mm.
- Benötigt Anzahl Proben
- Vollwafer
- Übliche Bearbeitungszeit
- 1 – 3 Wochen nach Eingang der Probe
- Nachweisgrenze
- 10E9 - 10E12 A/cm2
- Verfügbare Qualitätssysteme
- Measurlabs validierte Methode
- Messgeräte
- Methodenexperte
Preis
Wir berechnen außerdem eine 97 € Servicegebühr pro Auftrag.
Bei großen Chargen von Proben sind Rabatte möglich.
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